1. 研究目的与意义
无机膜包括金属膜、陶瓷膜、玻璃膜等等，其中在水处理领域里出镜最多、应用最广的当属陶瓷膜。比起高分子有机膜，陶瓷膜硬度更高、通量更大、寿命更长，然其性能优越，成本也很“高昂”，故其生存空间自然是受到高分子有机膜的强力挤压。
碳化硅是一种人工合成材料；纯天然的碳化硅也有，不过只发现于陨石中，在地球本身还没找到过这种材料。碳化硅的人工合成，是美国化学家Edward Goodrich Acheson博士于1891年在电熔金刚石试验中意外所得；他本人还因此于1910年获颁第四届珀金奖章（Perkin Medal）。
碳化硅陶瓷膜不仅具有一般无机膜的耐高温高压、耐化学腐蚀、化学稳定性高等优点，而且机械强度高、抗热震性能强、孔隙率高、比表面积大等特点，可以用于高温除尘等领域。相比于其他陶瓷膜产品，碳化硅陶瓷膜发展时间太短，目前，只有少数的几家能够实现商业化生产。
2. 研究内容和预期目标
主要研究内容：电泳沉积具有以下优点：设备简单，成本低；成膜快，可以大规模制膜；被镀件（用于沉积薄膜的基体）的形状不受限制，薄膜厚度均匀；制备的薄膜厚度可控；电泳沉积时可以连续进料，料液可循环利用，无污染物排出，因此近年来得到了欧美一些国家的关注，并有了令人满意的结果。
碳化硅（SiC）材料由于化学性能稳定、导热系数高、热膨胀系数小、耐磨性能好，可用作磨料、水轮机叶轮或汽缸体的内壁、高级耐火材料、脱氧剂、电热元件等，而且现在碳化硅复合材料在国防领域也应用广泛。但是传统碳化硅材料制备成本高，本论文旨在探索一种低温制备碳化硅膜材料的方法。
1、通过查阅文献、收集资料等，完成本课题的文献综述1篇；
3. 研究的方法与步骤
制备碳化硅薄膜的外延技术有很多，有分子束外延（MBE）、化学气相沉积（CVD）、磁控溅射（MS）、脉冲激光沉积（PLD）、电泳沉积等。如今工业合成碳化硅最常用的工艺依然称为Acheson法，就是将含硅的砂石与含碳的原料混合，在反应炉中加热到2500℃以上，生成碳化硅颗粒。制作SIC悬浮液然后测定ZETA电位，制作液漕，随之电泳最后沉积成膜。
4. 参考文献
[1] Vandeperre L， Van der Biest O， 1998， SiC laminates with porous interlayers produced by EPD. Presented at 100th Ann， Meer. Am. Ceram. Soc.， Cincinnati， OH
[2] Sarkar， P.， S. Datta， and P.S. Nicholson， Functionally graded ceramic/ceramic and metal/ceramic composites by electrophoretic deposition. Composites Part B-Engineering， 1997. 28(1-2): p. 49-56.
5. 计划与进度安排
第一阶段（第1～4周）：2月20日～3月19日
文献检索，论文开题，写出开题报告；
以上是毕业论文开题报告，课题毕业论文、任务书、外文翻译、程序设计、图纸设计等资料可联系客服协助查找。
